特許
J-GLOBAL ID:200903062043371097

スクリーンマスク及び薄膜の形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 荒船 博司 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-043044
公開番号(公開出願番号):特開2001-232251
出願日: 2000年02月21日
公開日(公表日): 2001年08月28日
要約:
【要約】【課題】 薄膜の形成方法において、良好な膜をパターン形成することを可能とし、かつ、低コスト化を図る。【解決手段】 ワイヤメッシュ2に所定のパターンを有する感光剤3を形成してなるスクリーンマスクを、基板4の上方に、ワイヤメッシュ2が基板4に接触しないように設け、上方からマイクロスプレー10により有機EL材料を含む原料液を噴霧する有機EL薄膜の形成方法である。ここで、感光剤3は、感光剤3によってメッシュ2が支持されてメッシュ2と基板4が接触しないように、所定の厚さを有するように形成されている。
請求項(抜粋):
複数の第1開口部を区画する隔壁を有するマスクと、前記マスク上に設けられ、各々の開口面積が前記各第1開口部の開口面積より小さい複数の第2開口部を有する磁性材料を含むメッシュと、を備えることを特徴とするスクリーンマスク。
IPC (7件):
B05B 15/04 102 ,  B05C 11/00 ,  B05D 1/02 ,  B05D 1/32 ,  B05D 7/00 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14
FI (7件):
B05B 15/04 102 ,  B05C 11/00 ,  B05D 1/02 Z ,  B05D 1/32 C ,  B05D 7/00 H ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A
Fターム (18件):
3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007CB02 ,  3K007EA02 ,  3K007EB03 ,  4D073AA01 ,  4D073BB03 ,  4D073DB03 ,  4D073DB07 ,  4D073DB12 ,  4D073DB24 ,  4D073DB43 ,  4D075AA01 ,  4D075AA63 ,  4D075AD11 ,  4F042AA06 ,  4F042DG09 ,  4F042DG14

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