特許

J-GLOBAL ID：200903062048217657

光露光方法

発明者： 春木 珠江 ,  中川 健二
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 青木 朗 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-141548
公開番号（公開出願番号）：特開平5-335213
出願日： 1992年06月02日
公開日（公表日）： 1993年12月17日
要約：

【要約】【目的】 半導体装置の製造などでの微細加工における光リソグラフィーでの光露光方法に関し、デバイスパターン(フォトマスクパターン)に最適な変形照明系で投影露光する方法を提供する。【構成】 変形照明系、フォトマスク、投影レンズからなる露光装置を用いて、該フォトマスクのパターンを基板上のレジストに投影露光する方法において、該フォトマスクのパターンがラインアンドスペースのパターンであるときに、露光装置の光軸から離れた位置での該パターンに平行な1本の線状光照明(或いは、光軸について中心対称の該パターンに平行な2本の線状光照明)を用いるように構成する。変形照明系が光源と、絞りと、コンデンサレンズとからなり、該絞り15に線状透穴16が設けられている。

請求項（抜粋）：

光源と、絞りと、コンデンサレンズとからなる変形照明系、フォトマスクおよび投影レンズからなる露光装置を用いて、該フォトマスクのパターンを基板上のレジストに投影露光する方法において、前記フォトマスクのパターンがラインアンドスペースのパターンであるときに、前記露光装置の光軸から離れた位置での前記パターンに平行な1本の線状光照明を用いることを特徴とする光露光方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521 ,  G02B 26/00

FI (2件)：

H01L 21/30 311 S ,  H01L 21/30 311 L