特許
J-GLOBAL ID：200903062057547503
ガス・ハイドレートの採収方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
熊倉 禎男
, 大塚 文昭
, 宍戸 嘉一
, 弟子丸 健
, 井野 砂里
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-525417
公開番号（公開出願番号）：特表2008-510085
出願日： 2005年08月03日
公開日（公表日）： 2008年04月03日
要約：
【課題】本発明は、ハイドレート層からガスを産出する方法及び装置を提供する。【解決手段】ハイドレート層からガスを産出する方法及び装置は、ハイドレート層(14)を貫通しかつハイドレート層の下の帯水層(12)に更に延びる少なくとも一つの坑井(10)の使用を含む。帯水層は、ハイドレート層までかつその中へ産出される比較的温かい水を供給してそれによりハイドレート層からガスの流出をもたらす。適切な流れ制御及び監視装置(30)が帯水層から産出された水及びハイドレート層から産出されたガスの流れを制御するために含まれる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
その中に位置するガス・ハイドレート鉱床を有し、かつ上記鉱床が液体源を更に含んでいる、地下層からガスを採収する方法であって、
(a)上記ガス・ハイドレート鉱床を貫通しかつ上記液体源に達している坑井を設ける段階と、及び
(b)上記液体源から上記ガス・ハイドレート鉱床に液体を流入させる段階と、
を具備することを特徴とする方法。
IPC (3件)：
E21B 43/00
, C10L 3/06
, E21C 50/00
E21B43/00 A
, C10L3/00 A
, E21C50/00
