特許
J-GLOBAL ID：200903062057830345
ポジ型レジスト組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-068850
公開番号（公開出願番号）：特開2002-268223
出願日： 2001年03月12日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
要約：
【要約】【課題】遠紫外光、特にArFエキシマレーザー光を使用したミクロフォトファブリケーションに於いて好適に使用することができる、解像力、露光マージンの優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】(A)特定の脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物において、(A)の樹脂が、下記一般式(pI)〜一般式(pVI)で示される脂環式炭化水素を含む部分構造を有する繰り返し単位を少なくとも1種含有する樹脂であり、且つ(B)の化合物が、下記一般式(I)又は一般式(II)で表される化合物であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(上記式中、R11は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基又はsec-ブチル基を表し、Zは、炭素原子とともに脂環式炭化水素基を形成するのに必要な原子団を表す。R12〜R16は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R12〜R14のうち少なくとも1つ、もしくはR15、R16のいずれかは脂環式炭化水素基を表す。R17〜R21は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R17〜R21のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。また、R19、R21のいずれかは炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表す。R22〜R25は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R22〜R25のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。また、R23とR24は、互いに結合して環を形成していてもよい。)【化2】(上記式中、R1〜R5は、各々独立に、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表す。但し、R1〜R3の内の2個は、互いに結合して環を形成してもよく、また、R4とR5とは、互いに結合して環を形成してもよい。X-は、下記のアニオンのいずれかを表す。)【化3】上記式中、R6〜R10は、各々独立に、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基を表す。但し、R6とR7とは、互いに結合して環を形成してもよく、また、R8〜R10の内の2個は、互いに結合して環を形成してもよい。
IPC (5件)：
G03F 7/039 601
, C08K 5/00
, C08L 33/04
, C08L101/02
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, C08K 5/00
, C08L 33/04
, C08L101/02
, H01L 21/30 502 R
2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB53
, 2H025CC04
, 2H025CC20
, 2H025FA17
, 4J002BG041
, 4J002BG051
, 4J002BG071
, 4J002EB006
, 4J002EV296
, 4J002GP03
