特許

J-GLOBAL ID：200903062069665730

安定な遊離ラジカル存在下での1,3-ジエンの制御されたラジカル重合によるテレケリックな1,3-ジエンオリゴマーの合成方法

発明者： ブゥトヴァン,ベルナール ,  セルフ,マルタン ,  プラデル,ジャン-ローラン
出願人/特許権者： エルフ アトケム ソシエテ アノニム
代理人 (1件)： 越場 隆
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-500271
公開番号（公開出願番号）：特表平11-511202
出願日： 1997年06月03日
公開日（公表日）： 1999年09月28日
要約：

【要約】安定なニトロキシドラジカルの存在下に感熱性開始剤を用いて少なくとも一種類の1,3-ジエンをラジカル重合させるテレケリックな1,3-ジエンオリゴマーの合成方法の改良と、新規生成物としてのテレケリックな1,3-ジエンオリゴマーと、ジブロックまたはマルチブロック共重合体合成におけるその使用。

請求項（抜粋）：

分散媒体中で、過酸化水素水溶液、アゾジニトリル等の感熱性開始剤を用いて少なくとも一種の1,3-ジエンのラジカル重合を行う、制御されたラジカル重合によるテレケリックな1,3-ジエンオリゴマーの合成方法において、 反応を安定な遊離ラジカルの存在下で行うことを特徴とする方法。

IPC (3件)：

C08F 4/28 ,  C08F 2/38 ,  C08F 36/04

FI (3件)：

C08F 4/28 ,  C08F 2/38 ,  C08F 36/04