特許
J-GLOBAL ID：200903062070994314
ポリヒドロキシスチレンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
滝田 清暉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-031788
公開番号（公開出願番号）：特開平5-001115
出願日： 1991年01月31日
公開日（公表日）： 1993年01月08日
要約：
【要約】【目的】 分子量分布が狭く、任意の分子量の高分子に制御することのできるポリヒドロキシスチレンの新規な製造方法を提供すること。【構成】【化5】で表されるテトラヒドロピラニルオキシスチレンモノマーをリビングアニオン重合した後、テトラヒドロピラニル基を脱離させることを特徴とするポリヒドロキシスチレンの製造方法。【効果】 超LSIの製造に必要な高解像度のレジスト材料として、或いはポリマーのブレンド材として有用なポリヒドロキシスチレンが得られる。
請求項（抜粋）：
下記構造式【化1】で表されるテトラヒドロピラニルオキシスチレンモノマーをリビングアニオン重合した後、テトラヒドロピラニル基を脱離させることを特徴とするポリヒドロキシスチレンの製造方法。
IPC (2件)：
C08F 12/24 MJY
, C08F 8/12 MGF
