特許
J-GLOBAL ID:200903062074893890

真空処理装置及びその操作方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-295405
公開番号(公開出願番号):特開2001-115253
出願日: 1999年10月18日
公開日(公表日): 2001年04月24日
要約:
【要約】【課題】 有機EL素子等を効率よく製造することができる真空処理装置及びその操作方法を提供する。【解決手段】 導入真空槽、処理真空槽及び排出真空槽を備え、導入真空槽と排出真空槽とがバルブを介して直接連結されている。被処理品を導入真空槽に導入し、窒素ガスにより置換して大気圧とした後、この導入真空槽を真空状態とし、次いで、被処理品を処理真空槽に導入し、所要の処理を施した後、処理品を真空状態にある排出真空槽に導入する。次いで、導入真空槽と排出真空槽との間のバルブを開け、導入真空槽と排出真空槽とを同圧とした後、導入真空槽に大気を導入して大気圧とし、排出真空槽に窒素ガスを導入して大気圧とする。このような操作により、導入真空槽への大気の導入及び排出真空槽への窒素ガスの導入に要する時間を短縮することができる。
請求項(抜粋):
被処理品を導入するための導入真空槽、該導入真空槽に連結される処理真空槽及び該処理真空槽に連結され、且つ処理品を排出するための排出真空槽を備える真空処理装置であって、上記導入真空槽と上記排出真空槽とがバルブを介して連結されていることを特徴とする真空処理装置。
IPC (4件):
C23C 14/24 ,  C23C 16/54 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14
FI (5件):
C23C 14/24 J ,  C23C 14/24 V ,  C23C 16/54 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A
Fターム (32件):
3K007AB18 ,  3K007BB01 ,  3K007BB04 ,  3K007CA01 ,  3K007CA05 ,  3K007CB01 ,  3K007DA00 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01 ,  3K007FA02 ,  4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029AA24 ,  4K029AA25 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029CA01 ,  4K029DA02 ,  4K029DA04 ,  4K029KA01 ,  4K029KA09 ,  4K030BA61 ,  4K030BB12 ,  4K030CA06 ,  4K030CA07 ,  4K030CA12 ,  4K030GA12 ,  4K030KA28 ,  4K030LA18

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