特許
J-GLOBAL ID:200903062081362778
中性原子ビーム光電離装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
波多野 久 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-038969
公開番号(公開出願番号):特開2000-243598
出願日: 1999年02月17日
公開日(公表日): 2000年09月08日
要約:
【要約】【課題】高出力のレーザービームを安定して供給することができる中性原子ビーム光電離装置を提供する。【解決手段】H- ビームを中性粒子ビームに中性化し、この中性粒子ビームをH+ ビームに荷電変換する中性原子ビーム光電離装置において、レーザービームを発生させるレーザービーム発生装置11と、この発生したレーザービームを多重回反射させ、かつこのレーザービームを前記中性粒子ビームの入射に合わせて反応させる多重反射光学系13a,13bとを備えた。
請求項(抜粋):
H- ビームを中性粒子ビームに中性化し、この中性粒子ビームをH+ ビームに荷電変換する中性原子ビーム光電離装置において、レーザービームを発生させるレーザービーム発生装置と、この発生したレーザービームを多重回反射させ、かつこのレーザービームを前記中性粒子ビームの入射に合わせて反応させる多重反射光学系とを備えたことを特徴とする中性原子ビーム光電離装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (25件):
2G085AA03
, 2G085AA13
, 2G085BA04
, 2G085BA11
, 2G085BE10
, 2G085CA06
, 2G085CA30
, 2G085DA01
, 2G085DA04
, 2G085DA10
, 2G085DB08
, 5F072AA03
, 5F072AA04
, 5F072AA06
, 5F072AC02
, 5F072JJ04
, 5F072JJ05
, 5F072JJ20
, 5F072KK05
, 5F072KK11
, 5F072KK12
, 5F072QQ02
, 5F072RR03
, 5F072RR05
, 5F072SS06
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