特許

J-GLOBAL ID：200903062092985394

固定抵抗器の製造方法

発明者： 大庭 耕一 ,  鈴木 健彦
出願人/特許権者： 京セラ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-159255
公開番号（公開出願番号）：特開平7-022221
出願日： 1993年06月29日
公開日（公表日）： 1995年01月24日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 表面の平滑性に優れ、抵抗値の変動を最小限に抑え、さらに電極の剥離が発生することがない固定抵抗器の製造方法を提供する。【構成】 本発明は、表面側の端子電極膜31a、31bを導電性ペーストの複数回の印刷・焼付けにより形成する工程と、前記端子電極膜の下層310とのみ接続するように抵抗体膜4を抵抗体ペーストの印刷・焼付けにより形成する工程と、前記抵抗体膜4を覆うように絶縁膜5を絶縁ペーストの印刷焼付けにより形成する工程と、を含む固定抵抗器の製造方法である。

請求項（抜粋）：

矩形状基板の対向する表面側端部に、多層構造の一対の端子電極を、前記一対の端子電極間に抵抗体膜を、前記抵抗体膜上に絶縁膜を夫々形成して成る固定抵抗器の製造方法において、前記端子電極を導電性ペーストの複数回の印刷・焼付けにより形成する工程と、前記端子電極の下層とのみ接続するように抵抗体膜を抵抗体ペーストの印刷・焼付けにより形成する工程と、前記抵抗体膜を覆うように絶縁膜を絶縁ペーストの印刷・焼付けにより形成する工程と、を含むことを特徴とする固定抵抗器の製造方法。

IPC (3件)：

H01C 17/06 ,  H01C 7/00 ,  H01C 17/28