特許
J-GLOBAL ID:200903062118138741

アライメントマークの形成方法及び半導体装置の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小池 隆彌
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-057278
公開番号(公開出願番号):特開平11-260682
出願日: 1998年03月10日
公開日(公表日): 1999年09月24日
要約:
【要約】【課題】 従来例のステッパーのアライメントマークの形成方法では、工程の途中で新たにアライメントマークを形成しなければならないため、半導体基板に占めるアライメントマークの面積が増加し、半導体基板1枚当たりのICチップの取れ数の減少や、工数の増加という問題点があった。【解決手段】 下層の第1のアライメントマークを形成し、その後の工程において、同一箇所に、上層の第2のアライメントマークを形成することを特徴とするアライメントマークの形成方法である。
請求項(抜粋):
下層の第1のアライメントマークを形成し、その後の工程において、同一箇所に、上層の第2のアライメントマークを形成することを特徴とするアライメントマークの形成方法。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/22 ,  G03F 9/00
FI (4件):
H01L 21/30 506 A ,  G03F 7/22 H ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 502 M

前のページに戻る