特許
J-GLOBAL ID：200903062119961522
CMP装置のスラリリサイクルシステム及びその方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塚原 孝和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-183073
公開番号（公開出願番号）：特開平11-010540
出願日： 1997年06月23日
公開日（公表日）： 1999年01月19日
要約：
【要約】【課題】 使用されたスラリを元の特性に戻して再使用することができるようにして、研磨作業コストの低減化を図ったCMP装置のスラリリサイクルシステム及びその方法を提供する。【解決手段】 CMP装置1で使用され貯留槽121に貯留されたスラリSをフィルタ4で瀘過することで、粒径の大きな異物を除去する。そして、スラリS中に生じたイオンをイオン除去器5aで除去した後、PH調整器5bでスラリSのPHを初期のPH値に復元する。そして、濃度調整タンク6において、スラリSの砥粒濃度を初期値に復元した後、フィルタ7において、スラリS中に残存する粒径の小さな異物を除去して、スラリ供給装置300にフィードバックする。
請求項（抜粋）：
CMP装置で使用されたスラリを流通させる流路手段中に、上記スラリ中に混入している粒径10ミクロン未満の異物を濾過する第1の濾過手段を設け、上記流路中であって上記第1の濾過手段の前段に、上記第1の濾過手段から離して配され且つ上記スラリ中に混入した粒径10ミクロン以上の異物を濾過する第2の濾過手段,上記スラリの砥粒の濃度をほぼ使用前の値になるように調整する濃度調整手段,及び上記スラリのPHをほぼ使用前のPH値にするように調整するPH調整手段のうち少なくとも一の手段を配設した、ことを特徴とするCMP装置のスラリリサイクルシステム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B24B 57/02
, B24B 37/00 H
