特許
J-GLOBAL ID：200903062136638638
グラフアイトの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-169875
公開番号（公開出願番号）：特開平5-017118
出願日： 1991年07月10日
公開日（公表日）： 1993年01月26日
要約：
【要約】【目的】 X線モノクロメーター、中性子線モノクロメーター、中性子線フィルター等の放射線光学素子として利用されるグラファイトの製造方法に関し、簡単な方法で、しかも、低コストで高配向性のブロック状のグラファイトを製造する。【構成】 原料の高分子フィルムの帯電を除去する。帯電除去後の積層状態の複数枚の高分子フィルムを熱分解温度領域で加圧しつつ焼成することにより、高分子フィルム同士が融着しないようにする。これによって積層状態の高分子フィルムを加圧しつつ焼成する際、分解ガスは高分子フィルム間を通ってスムーズに外部に放出され、発生ガスによって高分子フィルムが破壊に至るのを防ぐことができる。一方、加圧によって高分子フィルム内部に歪が入るのを防ぐことができる。
請求項（抜粋）：
複数枚の高分子フィルムを積層し、加圧、熱処理してグラファイトを製造するに際し、上記高分子フィルムをあらかじめ帯電除去処理して加圧、熱処理することを特徴とするグラファイトの製造方法。
IPC (2件)：
C01B 31/04 101
, C04B 35/54
