特許

J-GLOBAL ID：200903062140512975

主走査方向及び副走査方向の直交度補正機能を持つレーザ描画装置

発明者： 岩崎 悦夫 ,  奥山 隆志
出願人/特許権者： 旭光学工業株式会社
代理人 (1件)： 松浦 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-245644
公開番号（公開出願番号）：特開平10-070637
出願日： 1996年08月28日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：

【要約】【課題】 主走査方向と副走査方向との直交度をラスターデータの一画素サイズよりも小さな単位で行い得るレーザ描画装置を提供する。【解決手段】 本発明によるレーザ描画装置にあっては、主走査方向に対するパターンの副走査方向に沿う直交度誤差補正データに基づいて、一画素サイズDp分の直交度誤差を生じさせる被描画体の副走査方向に沿う第1の移動区間を演算し、各第1の移動区間をn等分して第2の移動区間を演算し、この第2の移動区間での直交度誤差をDp /nに抑えるように該第2の移動区間でのレーザビームの主走査方向に沿う描画開始位置を所定の向きに順次Dp /nだけシフトし、第1の移動区間でのレーザビームによる描画作動が完了する度毎にレーザビームの手段走査方向に沿う描画開始位置を前記向きと同じ向きに一画素サイズDp 分だけシフトする。

請求項（抜粋）：

被描画体に対してレーザビームを主走査方向に偏向させつつ該被描画体を副走査方向に移動させて該被描画体に対するレーザビームの変調をラスタデータに基づいて所定の周波数のクロックパルスに従って制御して所定のパターンの描画を行うレーザ描画装置であって、前記主走査方向に対する前記パターンの副走査方向に沿う直交度誤差補正データに基づいて、一画素サイズDp 分の直交度誤差を生じさせる前記被描画体の副走査方向に沿う第1の移動区間を演算する第1の移動区間演算手段と、前記各第1の移動区間をn等分して第2の移動区間を演算する第2の移動区間演算手段と、前記第2の移動区間での直交度誤差をDp /nに抑えるように該第2の移動区間でのレーザビームの主走査方向に沿う描画開始位置を所定の向きに順次Dp /nだけシフトするための第1の描画開始位置シフト手段と、前記第1の移動区間でのレーザビームによる描画作動が完了する度毎にレーザビームの主走査方向に沿う描画開始位置を前記向きと同じ向きに一画素サイズDp 分だけシフトするための第2の描画開始位置シフト手段とを具備して成るレーザ描画装置。

IPC (3件)：

H04N 1/113 ,  B41J 2/44 ,  B43L 13/00

FI (3件)：

H04N 1/04 104 Z ,  B43L 13/00 J ,  B41J 3/00 D