成膜装置および成膜方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松本武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-225951
公開番号（公開出願番号）：特開平6-065738
出願日： 1992年08月25日
公開日（公表日）： 1994年03月08日
要約：

【要約】【目的】固体材料からのPVD法による成膜と、気体もしくは液体材料からのCVD法による成膜を連続して行え、異種材料の混合膜の形成に対し十分な適性があり、構成が複雑化せずに済ませられる成膜装置を提供する。【構成】この発明の成膜装置は、マグネット4とマイクロ波導入口6,15を有しプラズマ生起用第1ガスを導入できるプラズマ室5と、第2ガスを導入できる反応室2とが設けられていて、両室の間にバイアス電圧を印加できるターゲットTが配置されており、前記プラズマ室のプラズマが反応室に導入される構成になっている。

請求項（抜粋）：

マグネットとマイクロ波導入口を有しプラズマ生起用第1ガスを導入できるプラズマ室と、第2ガスを導入できる反応室とが設けられていて、両室の間にバイアス電圧を印加できるターゲットが配置されており、前記プラズマ室のプラズマが反応室に導入されるようになっている製膜装置。

IPC (2件)：

C23C 14/35 , C23C 16/50

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平2-190467
特開昭63-277755
特開平1-298153

全件表示

前のページに戻る