フォトレジスト層用の現像剤

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-133932
公開番号（公開出願番号）：特開平7-333863
出願日： 1995年05月31日
公開日（公表日）： 1995年12月22日
要約：

【要約】【目的】現像欠陥の少ない水性現像剤の提供。【構成】本発明は、少なくとも1種の標準的な塩基性成分に加えて、ある種の陰イオン系界面活性剤および、必要に応じて、非イオン系界面活性剤を含む、金属イオンを含まない現像剤に、およびその濃縮物に関する。

請求項（抜粋）：

(a)水および(b)少なくとも1種の水溶性有機塩基性化合物を含有する、金属イオン不含現像剤であって、前記現像剤がさらにc)少なくとも1種の、式R1 -[O-CH2 -CH2 -]z -O-CH2 -COOH (I)またはR1 -[O-CH2 -CH2 -]z -O-CH2 -SO3 H (II)(式中、R1 は、必要に応じて3個までの分枝鎖または直鎖アルキル基で置換された、(C1 〜C20)アルキル基または(C6 〜C20)アリール基であり、zは1〜60の整数である。)の陰イオン系界面活性剤、必要に応じてd)少なくとも1種の、式Cm H2m+1-[O-CH2 -CH2 -]x [O- CH(CH3 )-CH2 -]y OH (III) またはCm H2m+1-[O-CH2 -CH2 -]x [O- CH(CH3 )-CH2 -]y O-Cn H2n+1 (IV)(式中、mは10〜22の数であり、nは1〜6の数であり、xおよびyは、互いに独立して、3〜30の数である。)の非イオン系界面活性剤、およびやはり必要に応じてe)少なくとも1種の、式HC=C-CR2 R3 -[O-CH2 -CH2 -]r OH (V)またはHO-[CH2 -CH2 -O-]r -CR4 R5 - C=C-CR2 R3 -[O-CH2 -CH2 -]r OH (VI)(式中、R2 〜R5 は、互いに独立して、水素原子または(C1 〜C5 )アルキル基であり、rは1〜60の数である。)、または式HO-[CH2 -CH2 -O-]s [CH(CH3 )-CH2 -O-]t H (VII) (式中、s:tの比は10:90〜80:20である。)、または式R6 -[O-CH2 -CH2 -]o OH (VIII)(式中、R6 は、必要に応じて3個までの分枝鎖または直鎖アルキル基で置換された(C6 〜C20)アリール基であり、oは1〜60の整数である。)の界面活性剤を含有し、陰イオン系界面活性剤と非イオン系界面活性剤の比率が、現像剤の総重量に対して100 ppm〜6,000 ppmである(ただし、重量比(c):[(d)+(e)]は3:7〜8:2であり、界面活性剤(c)の比率は常に界面活性剤(d)の比率よりも大きい)ことを特徴とする現像剤。

IPC (2件)：

G03F 7/32 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭62-032453
特開昭63-025650
特開昭61-097653

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