特許
J-GLOBAL ID：200903062189222450
アイドル回転数制御装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-017548
公開番号（公開出願番号）：特開平5-215051
出願日： 1992年02月03日
公開日（公表日）： 1993年08月24日
要約：
【要約】【目的】本発明はスロットルバルブをバイパスするバイパス通路と、バイパス通路の通過面積を変化させるアイドル回転数制御弁(ISCV)とを有したアイドル回転数制御装置に関し、上記ISCVにおける空気振動がバイパス通路に共鳴することによる異音の発生を容易に防止することを目的とする。【構成】出口側通路9bにおける弁体21の下流側の部分に流れ出る空気の流れを、弁体21とハウジング9との間の隙間22を洩れて流れる副流と、弁体21の先端部分21b側の部分に設けられた空気流通孔21cを流れる副流Dとの2系統設ける。隙間22にデポジット23が付着して隙間22を流れる副流が減少する場合でも、副流Dにより弁体21の下流側の部分に低圧部が発生することが防止でき、主流Aの渦流による空気振動が発生しなくなる。その結果、バイパス通路の形状を詳細に調整することなく異音を容易に防止することができる。
請求項（抜粋）：
内燃機関の吸気通路内に設けられたスロットルバルブをバイパスするバイパス通路と、前記バイパス通路の通過面積を変化させるロータリソレノイドタイプのアイドル回転数制御弁とを有し、前記バイパス通路の通過面積を変化させることにより前記内燃機関のアイドル回転数を制御するアイドル回転数制御装置において、前記アイドル回転数制御弁の弁体が前記アイドル回転数制御弁の流出口を制限する際、前記流出口を通過する空気の主流の他に、前記弁体により制限された前記流出口の下流側の部分に流れ出る空気の流れを、前記アイドル回転数制御弁のハウジングと前記弁体との間の隙間を洩れる第1の副流と、該第1の副流以外に設けられた第2の副流との少なくとも2経路以上設けたことを特徴とするアイドル回転数制御装置。
FI (2件)：
F02D 33/00 318 A
, F02D 33/00 318 J
