真空成膜用マスク

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山口巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-139346
公開番号（公開出願番号）：特開平9-320758
出願日： 1996年06月03日
公開日（公表日）： 1997年12月12日
要約：

【要約】【課題】マスク開口部間の隔壁部の破損を防止し、高精細で且つ大面積のパターニングが可能な真空成膜用マスクを得る。【解決手段】基板1に接触するマスク平面に対向するマスク面において、開口部12間の隔壁部を介して複数の開口部に一体に架設される桁構造11を備える。

請求項（抜粋）：

開口部パターンが形成され、真空成膜時に基板に密着して開口部のパターンに従い薄膜を形成する真空成膜用マスクにおいて、基板に接触するマスク平面に対向するマスク面において開口部間の隔壁部を介して複数の開口部に一体に架設される桁構造を備えることを特徴とする真空成膜用マスク。

IPC (2件)：

H05B 33/04 , H05B 33/14

FI (2件)：

H05B 33/04 , H05B 33/14

引用特許：

出願人引用 (4件)

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審査官引用 (1件)

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