特許

J-GLOBAL ID：200903062206321483

グロー放電方法及びグロー放電装置

発明者： 水野 尊司 ,  工藤 大二郎
出願人/特許権者： 三菱化成株式会社
代理人 (1件)： 松永 孝義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-112815
公開番号（公開出願番号）：特開平6-093454
出願日： 1993年05月14日
公開日（公表日）： 1994年04月05日
要約：

【要約】【目的】 高品質で広い面積にわたって、均一に、かつ高速にプラズマ処理を行うことができるグロー放電方法および装置を提供すること。【構成】 二つの電極1、2間に形成されるグロー放電電界中にガス状物質をシャワー窓12から導入して電極1上の基板3上に薄膜を堆積あるいは食刻させる。このとき、基板3の上方に電極が存在しない状態でグロー放電を確立し、基板3の上方から基板に向けて電磁波エネルギー(赤外線、可視光、紫外線、マイクロ波、高周波など)を付加すると低プラズマ損傷で、かつ高速なプラズマ処理が可能となる。

請求項（抜粋）：

ガス状物質のグロー放電により基体状に薄膜を堆積あるいは食刻させるグロー放電方法において、前記基体表面上に非一様に延在する弱電界領域および前記基体から離れた強電界領域を与えるグロー放電電界を、前記基体の上方に電極が存在しない状態で確立する工程と、前記基体表面の上方から基体に向けて電磁波エネルギーを付加する工程とを有することを特徴とするグロー放電方法。

IPC (7件)：

C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  C30B 25/02 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46