特許

J-GLOBAL ID：200903062207644995

シリカ被膜形成用塗布液

発明者： 山本 昌樹 ,  石田 英明
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-074022
公開番号（公開出願番号）：特開平10-265736
出願日： 1997年03月26日
公開日（公表日）： 1998年10月06日
要約：

【要約】【課題】 クラックのない厚膜で、しかも下地を良好な密着性で平坦化するシリカ被膜を形成する。【解決手段】(A)ハイドロトリアルコキシシランの縮合反応により得られる下記一般式(I)のハイドロジェンシロキサンポリマーと、【数1】(式中、R1,R2,R3はHまたはアルキル基)下記一般式(II)のテトラアルコキシシラン【数2】Si(OR4)4 (II)(式中、R4はC1〜4のアルキル基)とを反応させて得られるシロキサンポリマー、及び(B)沸点が100°C以上170°C以下の有機溶媒を必須成分とするシリカ被膜形成用塗布液。

請求項（抜粋）：

(A)ハイドロトリアルコキシシランの縮合反応により得られる下記一般式(I)のハイドロジェンシロキサンポリマーと、【数1】(式中、R1,R2,R3はHまたはアルキル基)下記一般式(II)のテトラアルコキシシラン【数2】Si(OR4)4 (II)(式中、R4はC1〜4のアルキル基)とを反応させて得られるシロキサンポリマー、及び(B)沸点が100°C以上170°C以下の有機溶媒を必須成分とするシリカ被膜形成用塗布液。