特許

J-GLOBAL ID：200903062217465746

ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法

発明者： 大谷 充孝 ,  堤 憲太郎 ,  前田 一彦
出願人/特許権者： セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-149968
公開番号（公開出願番号）：特開2001-330955
出願日： 2000年05月22日
公開日（公表日）： 2001年11月30日
要約：

【要約】【課題】 酸の作用によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が変化する基材樹脂および酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物において、真空紫外領域のレーザー光に使用するポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】基材樹脂として、構成単位として式1で表される単位を含む共重合体を使用する。

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が変化する樹脂および酸発生剤を含有するポジ型レジスト組成物において、該樹脂が式(1)、【化1】で表される単位を1モル%以上と他のビニル化合物に由来する単位99モル%以下とからなる含フッ素共重合体であることを特徴とする真空紫外領域のレーザー用ポジ型レジスト組成物。

IPC (10件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 2/46 ,  C08F216/14 ,  C08F218/04 ,  C08F220/10 ,  C08F226/02 ,  C08F232/04 ,  C08K 5/00 ,  C08L 27/12 ,  H01L 21/027

FI (10件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 2/46 ,  C08F216/14 ,  C08F218/04 ,  C08F220/10 ,  C08F226/02 ,  C08F232/04 ,  C08K 5/00 ,  C08L 27/12 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (46件)：

2H025AA01 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC03 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BF11 ,  2H025BF29 ,  2H025FA17 ,  4J002BE041 ,  4J002BF011 ,  4J002BG031 ,  4J002BJ001 ,  4J002BK001 ,  4J002EB116 ,  4J002ES006 ,  4J002EU186 ,  4J002EU196 ,  4J002EV236 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J011RA03 ,  4J011RA10 ,  4J011RA11 ,  4J011SA78 ,  4J011SA79 ,  4J011SA83 ,  4J011SA84 ,  4J011SA87 ,  4J011UA02 ,  4J011UA04 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  4J100AE13Q ,  4J100AG10Q ,  4J100AL01Q ,  4J100AN04Q ,  4J100AR04P ,  4J100BA20Q ,  4J100BB07P ,  4J100CA04 ,  4J100JA38