特許
J-GLOBAL ID：200903062222848920
薄膜製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
,
代理人 (2件)：
西澤 利夫 (外1名)
, 西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-066706
公開番号（公開出願番号）：特開平7-252670
出願日： 1994年03月09日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：
【要約】【構成】2成分以上の無機または有機材料を、大気圧下に置かれた溶液または分散液状態から、各成分毎に設けた噴霧ノズル(1)を経て高真空容器(3)内に直接噴霧して基板(10)上に堆積させる薄膜製造装置であって、真空内より排気された溶媒または分散媒体を、これらの液体が凝固する程度の低温を発生することにより、または、物理吸着により、捕捉し、これらの液体の真空排気装置の到達を阻止するとともに堆積室と真空排気装置間に大きな圧力差をつける排気捕捉装置を有することを特徴とする薄膜製造装置。【効果】有機系光材料の分解温度よりもはるかに低い温度において高品質で高機能な複合型光学薄膜の製造が可能となる。また、この発明によって、2成分以上の有機系光材料から成る複合型光学薄膜、さらに、その複合型光学薄膜において、その深さ方向に成分の濃度を任意に変化させた高機能な薄膜の製造が可能となる。
請求項（抜粋）：
2成分以上の無機または有機材料を、大気圧または大気圧以上の圧力下に置かれた溶液または分散液状態から、各成分毎に設けた噴霧ノズルを経て高真空容器内に直接噴霧して基板上に堆積させる薄膜製造装置であって、真空室内より排気された溶媒または分散媒体を、これらの液体が凝固する程度の低温を発生することにより、または、物理吸着により、捕捉し、これらの液体の真空排気装置への到達を阻止するとともに堆積室と真空排気装置間に大きな圧力差をつける排気捕捉装置を有することを特徴とする薄膜製造装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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