特許
J-GLOBAL ID:200903062243054576
面形状計測方法、姿勢計測方法、及び露光方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 青山 正和
, 西 和哉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-037983
公開番号(公開出願番号):特開2006-226719
出願日: 2005年02月15日
公開日(公表日): 2006年08月31日
要約:
【課題】 移動体としてのステージ自体に歪みが生じていてもステージの位置検出精度を向上させることができる面形状計測方法等を提供する。【解決手段】 レーザ干渉計13を用いてウェハステージWSTに設けられた移動鏡12のZ軸に対する傾きを計測し、この計測結果に基づいてZ軸に対する移動鏡12の傾きが零となるようにウェハステージWSTの姿勢を制御し、多点フォーカス位置検出系21を用いてこのときのウェハステージWSTの姿勢を計測する。以上の処理を計測対象の移動鏡12の鏡面に沿ってウェハステージWSTを微小移動させながら繰り返す。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
第1軸と直交する基準平面に沿って移動する移動体に設けられ、前記第1軸方向と直交する第2軸方向に沿って延びる反射面の形状を計測する面形状計測方法であって、
前記第1軸に対する前記反射面の傾きを計測する第1ステップと、
前記第1ステップの計測結果に基づいて前記第1軸に対する前記反射面の傾きが零となるように前記移動体の姿勢を制御する第2ステップと、
前記基準平面に対する前記移動体の姿勢を計測する第3ステップと、
前記第2軸方向に沿って前記移動体を移動させつつ前記第1ステップから前記第3ステップを繰り返す第4ステップと
を含むことを特徴とする面形状計測方法。
IPC (5件):
G01B 21/20
, G01B 11/26
, G01B 21/22
, G03F 7/20
, H01L 21/027
FI (5件):
G01B21/20 C
, G01B11/26 G
, G01B21/22
, G03F7/20 501
, H01L21/30 516B
Fターム (51件):
2F065AA00
, 2F065AA03
, 2F065AA24
, 2F065AA35
, 2F065AA37
, 2F065AA39
, 2F065AA53
, 2F065BB01
, 2F065BB02
, 2F065BB15
, 2F065BB25
, 2F065BB29
, 2F065CC00
, 2F065CC20
, 2F065FF00
, 2F065FF10
, 2F065FF55
, 2F065FF65
, 2F065FF66
, 2F065FF67
, 2F065MM03
, 2F065PP12
, 2F065QQ23
, 2F065RR08
, 2F069AA00
, 2F069AA42
, 2F069AA66
, 2F069AA77
, 2F069AA93
, 2F069BB40
, 2F069GG04
, 2F069GG07
, 2F069GG15
, 2F069GG52
, 2F069GG56
, 2F069GG58
, 2F069GG59
, 2F069GG72
, 2F069HH09
, 2F069HH30
, 2F069MM24
, 2F069MM38
, 2H097BA02
, 2H097LA10
, 2H097LA11
, 5F046CC01
, 5F046CC02
, 5F046CC16
, 5F046DB05
, 5F046DC05
, 5F046DC12
引用特許:
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