特許
J-GLOBAL ID:200903062243782911

光学機能性膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉田 勝広 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-197932
公開番号(公開出願番号):特開平9-024575
出願日: 1995年07月12日
公開日(公表日): 1997年01月28日
要約:
【要約】【目的】 高機能、高品質な機能性薄膜を大量生産や設備コスト面で有利な塗布法によって形成する方法を提供すること。【構成】 RmSi(OR ́)n(R、R ́は炭素数1〜10のアルキル基を表し、m+nは4の整数である)で表される珪素アルコキシドを加水分解して調製したSiO2ゾルを、透明樹脂基材上に直接又は他の層を介して塗布し、形成された塗布層を上記樹脂基材の熱変形温度以下の温度で熱処理してSiO2ゲル層を形成することを特徴とする光学機能性膜の製造方法。
請求項(抜粋):
RmSi(OR ́)n(R、R ́は炭素数1〜10のアルキル基を表し、m+nは4の整数である)で表される珪素アルコキシドを加水分解して調製したSiO2ゾルを、透明樹脂基材上に直接又は他の層を介して塗布し、形成された塗布層を上記樹脂基材の熱変形温度以下の温度で熱処理してSiO2ゲル層を形成することを特徴とする光学機能性膜の製造方法。
IPC (3件):
B32B 9/00 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 27/06
FI (3件):
B32B 9/00 A ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 27/06
引用特許:
審査官引用 (16件)
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