ポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及びレジスト像の製造法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：高田幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-183944
公開番号（公開出願番号）：特開2003-005360
出願日： 2001年06月18日
公開日（公表日）： 2003年01月08日
要約：

【要約】【課題】本発明の目的は、高感度、高解像度でパターン形状が良く、かつ、プロセス安定性の優れたポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及びレジスト像の製造法を提供することにある。【解決手段】(a)分子内に酸分解性基を有し酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加され、かつ、酸触媒反応により分子量が低下される化合物及び(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物を含有し、(c)酸拡散抑制剤を少なくとも含有してなるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物において、上記(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物がオニウム塩でありオニウム塩の対アニオンがヘキサフルオロアンチモネートであることを特徴とするポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及びレジスト像の製造法。

請求項（抜粋）：

(a)分子内に酸分解性基を有し酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加され、かつ、酸触媒反応により分子量が低下される化合物及び(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物を含有し、(c)酸拡散抑制剤を少なくとも含有してなるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物において、前記(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物がオニウム塩であり該オニウム塩の対アニオンがヘキサフルオロアンチモネートであることを特徴とするポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/004 503 A , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

Fターム (11件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB41 , 2H025CB55 , 2H025CC20

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