特許
J-GLOBAL ID:200903062268130382

リモートプラズマによる表面処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-129926
公開番号(公開出願番号):特開平8-323873
出願日: 1995年05月29日
公開日(公表日): 1996年12月10日
要約:
【要約】【目的】 プラズマ中のラジカル種を積極的に利用して表面処理し、高特性、高品質の表面を得る。【構成】 減圧系内で、被処理表面をプラズマ領域から離した位置に置いて処理する。
請求項(抜粋):
減圧系内で、被処理表面をプラズマ領域から離れた位置に配設して表面処理することを特徴とするリモートプラズマによる表面処理方法。
IPC (2件):
B29C 71/04 ,  C08J 7/00 306
FI (2件):
B29C 71/04 ,  C08J 7/00 306

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