特許

J-GLOBAL ID：200903062273756362

ホウ化物含有ターゲット材

発明者： 久保田 和幸 ,  大沼 仁志 ,  伊坂 正和
出願人/特許権者： 日立ツール株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-013488
公開番号（公開出願番号）：特開2008-179853
出願日： 2007年01月24日
公開日（公表日）： 2008年08月07日
要約：

【課題】 本願発明が解決しようとする課題は、アークイオンプレーティング法、マグネトロンスパッタ法に用いるターゲット材であって、ドロップレットの生成が抑制され、品質の高い皮膜を形成するのために好適なターゲット材を提供することである。【解決手段】 本願発明は、Al元素及び/またはSi元素と、M成分、但し、M成分は周期律表4a、5a、6a族金属元素、Si、Sから選択される1種以上の元素を有するターゲット材において、該ターゲット材は、M成分のホウ化物を、モル%で5%以上、30%以下含有し、該Mホウ化物が、Al相及び又はSi相中に含まれる組織を有することを特徴とするホウ化物含有ターゲット材である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

Al元素と、M成分、但し、M成分は周期律表4a、5a、6a族金属元素、Si、Sから選択される1種以上の元素を有するターゲット材において、該ターゲット材は、M成分のホウ化物を、モル%で5%以上、30%以下含有し、該Mホウ化物が、Al相中に含まれる組織を有することを特徴とするホウ化物含有ターゲット材。

IPC (1件)：

C23C 14/34

FI (1件)：

C23C14/34 A

Fターム (14件)：

4K029AA02 ,  4K029BA53 ,  4K029BA58 ,  4K029BC02 ,  4K029BD05 ,  4K029CA04 ,  4K029CA06 ,  4K029CA13 ,  4K029DA08 ,  4K029DC04 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  4K029DC39 ,  4K029DD06

引用特許：

出願人引用 (4件)

• ホウ素/炭素/窒素/酸素/ケイ素でドープ処理したスパッタリングターゲットの製造方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2004-523049   出願人：ヘラエウスインコーポレーテッド
• 切削工具用硬質皮膜およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-167962   出願人：株式会社神戸製鋼所
• スパッタリングターゲットおよびそれを用いて形成した高硬度被膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-047898   出願人：株式会社東芝
• 特開平4-56758号公報
  

審査官引用 (3件)

• 耐摩耗性に優れた硬質皮膜、硬質皮膜被覆工具及び硬質皮膜被覆部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-100153   出願人：株式会社神戸製鋼所
• Cr合金ターゲット材およびその製造方法ならびに皮膜コーティング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-346804   出願人：日立金属株式会社
• 硬質皮膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-171022   出願人：日立ツール株式会社