特許

J-GLOBAL ID：200903062279733364

ナフチリジン及びピリドピラジン誘導体

発明者： 澁谷 直応 ,  河村 健一 ,  橋本 謹治
出願人/特許権者： 株式会社大塚製薬工場
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-162208
公開番号（公開出願番号）：特開平7-304775
出願日： 1994年07月14日
公開日（公表日）： 1995年11月21日
要約：

【要約】【目的】 抗炎症作用、免疫調節作用、鎮痛作用、解熱作用、抗アレルギー作用、抗うつ作用等を有する新規化合物の提供。【構成】 一般式【化1】〔式中、R1 は低級アルキルなどを、R2 は低級アルカノイル基などを示し、R3 は、置換基を有してもよいフェニルチオ基などを、またXはCH又はNを示す。〕で表されるナフチリジン及びピリドピラジン誘導体により達成される。【効果】 免疫調節剤、消炎・鎮痛解熱剤、抗アレルギー剤、抗うつ剤として慢性関節リウマチ、腎炎、中枢性疾患、喘息、乾癬などの治療及び予防に有効に利用できる。

請求項（抜粋）：

一般式【化1】〔式中、R1 は水素原子、低級アルキル基又は置換基としてハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基及びニトロ基から選ばれる基を有することのあるフェニル基を、R2 は水素原子、低級アルカノイル基又は電子対“-”を示し、R3 は、R2 が水素原子又は低級アルカノイル基である場合には、基-S(O)n R4 (式中、R4 は低級アルキル基又はフェニル基を、nは0又は1を示す)を、R2 が電子対“-”の場合は、基【化2】(式中、Phはフェニル基を示す)、基【化3】(式中、R5 及びR6 は同一又は異なって低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、フェニル低級アルキル基、ジ低級アルコキシホスホリル低級アルキル基又は置換基としてヒドロキシル基、低級アルカノイルアミノ基、カルボキシル基及びハロゲン原子から選ばれる基の1〜2個を有することのあるフェニル基を示すか、あるいは互いに結合してS原子を含む複素環を形成し、該複素環は低級アルキル基、低級アルコキシ基又はオキソ基で置換されていてもよい)又は1-ピリジニオ基を示し、XはCH又はNを示す。〕で表されるナフチリジン及びピリドピラジン誘導体。

IPC (12件)：

C07D471/04 114 ,  C07D471/04 120 ,  A61K 31/395 ABG ,  A61K 31/435 AAG ,  A61K 31/435 AAH ,  A61K 31/435 AAK ,  A61K 31/435 ABC ,  A61K 31/435 ABE ,  A61K 31/435 ABF ,  A61K 31/495 ACD ,  A61K 31/495 ACV ,  A61K 31/495 ADA