特許
J-GLOBAL ID：200903062283587038
ベーキング装置及びベーキング方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-096509
公開番号（公開出願番号）：特開平5-299334
出願日： 1992年04月16日
公開日（公表日）： 1993年11月12日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、ベーキングの際に生じる気泡によるレジスト膜の穴を防ぐベーキング装置及びベーキング方法を提供することを目的とする。【構成】 本発明によれば、ベーキングチャンバ13内を冷却しながら、ウェハ11を加熱するので、レジスト表面からウェハ11とレジスト(図示せず)との界面にいくにしたがって温度が高くなるという温度勾配が生ずることになる。従って、レジスト中の溶剤は温度の高いほうが、蒸気圧が高くなり低温側へとにげようとするためウェハ11とレジスト(図示せず)との界面から溶剤が揮発してゆく。すなわち、このようなべーキングをすることにより、レジスト中の溶剤において、ウェハ11との界面側からの揮発が増大するので、特にウェハ11との界面付近の溶剤残りを防止することが可能になる。この結果、後の工程で熱が加わっても既に充分に溶剤が揮発しているので気泡等の発生がなく、レジスト膜に穴が開くこともなくなるため製造歩留まりが向上する効果がある。
請求項（抜粋）：
フォトレジストが塗布された処理すべきウェハが内部にセットされ、さらに内部が不活性ガス雰囲気となっているベーキングチャンバと、前記ベーキングチャンバ内の不活性ガスの温度を制御する気体制御系と、前記ベーキングチャンバ内に設けられたウェハの加熱を制御する加熱制御系と、 前記ベーキングチャンバ内の不活性ガスを冷却するよう前記気体温度制御系を制御し、かつ、前記ウェハを加熱するよう加熱制御系を制御し、次いで所定時間経過後に前記ベーキングチャンバの内部を室温付近まで上昇させるよう気体制御系を制御する中央処理装置とを備えることを特徴とするフォトレジストのベーキング装置。
FI (2件)：
H01L 21/30 361 H
, H01L 21/30 361 G
