特許
J-GLOBAL ID：200903062287999543
中間調記録方法及びその実施に使用する書込み用光源装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柏木 明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-110976
公開番号（公開出願番号）：特開平5-236225
出願日： 1992年04月30日
公開日（公表日）： 1993年09月10日
要約：
【要約】【目的】 光強度変調とパルス幅変調との組合せ方式を改良して、より安定した高品位中間調記録を可能にすること。【構成】 1画素を複数個の微小画素のマトリクスで表現し、その1画素内で光源の発光パルス幅を1微小画素に対するパルス幅Tを分割した分割パルスΔTn単位で選択自在、光源の光強度を分割パルスΔTn 内で各々m種の複数値で選択自在とし、ある微小画素中の分割パルス内で光強度を最小光強度から最大光強度Pm まで上げた後、その分割パルスに対して副走査方向に隣接の微小画素中の分割パルス内で光強度を同様に最大光強度Pm まで上げる処理を順次繰返し、副走査方向のL個の微小画素の分割パルスを選択後、最大光強度Pm で露光された分割パルスに対し主走査方向に隣接する分割パルス内を露光する処理を順次繰返す順序で、濃度レベルの上昇に応じた微小画素、発光パルス幅及び光強度の選択を行なうようにした。
請求項（抜粋）：
入力された濃度情報を含む画像情報の1画素をK×L個の微小画素からなるマトリクス(ただし、Kは主走査方向の微小画素数、Lは副走査方向の微小画素数であり、ともに1以上の整数であって同時には1とはならない数)で表現し、前記マトリクスを構成する1画素内で光源の発光パルス幅を1微小画素に対するパルス幅Tを分割して得られる分割パルス単位で選択自在とし、かつ、光源の光強度を前記分割パルス内で各々m種の複数値で選択自在とし、ある微小画素中の分割パルス内で光強度を最小光強度から最大光強度まで上げた後、その分割パルスに対して副走査方向に隣接する微小画素中の分割パルス内で光強度を最小光強度から最大光強度まで上げていく処理を順次繰返し、副走査方向のL個の微小画素の分割パルスを選択した後、最大光強度で露光された分割パルスに対して主走査方向に隣接する分割パルス内を露光する処理を順次繰返す順序により、画像情報における濃度レベルの上昇に応じた微小画素、発光パルス幅及び光強度の選択をして記録するようにしたことを特徴とする中間調記録方法。
IPC (4件)：
H04N 1/23 103
, B41J 2/44
, B41J 2/52
, H04N 1/40
B41J 3/00 M
, B41J 3/00 A
