特許

J-GLOBAL ID：200903062288041599

荷電粒子露光装置におけるクリーニング方法とクリーニング装置

発明者： 竹本 暁生 ,  大饗 義久 ,  坂本 樹一
出願人/特許権者： 富士通株式会社 ,  富士通ヴィエルエスアイ株式会社
代理人 (1件)： 高橋 敬四郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-341288
公開番号（公開出願番号）：特開平5-175112
出願日： 1991年12月24日
公開日（公表日）： 1993年07月13日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 荷電粒子ビームの断面形状を成形するためのマスクを用いる荷電粒子露光装置において、マスクのその場クリーニングを行なうクリーニング方法およびクリーニング装置に関し、荷電粒子露光装置からマスクを取り出すことなく、マスクをクリーニングすることのできるクリーニング方法保を提供することを目的とする。【構成】 高分解能、短焦点型の荷電粒子露光装置において、露光時に露光用マスク21を配置する空間に露光用マスクを置いたままクリーニング用ガスを導入する工程と、マスク上方の金属部12とマスクを保持する金属台23との間に高周波の電圧27を印加する工程と、マスク上方の電磁レンズ17によって磁場19を発生させる工程とを含む。

請求項（抜粋）：

高分解能、短焦点型の荷電粒子露光装置において、露光時に露光用マスクを配置する空間(10)に露光用マスクを置いたままクリーニング用ガス(25)を導入する工程と、マスク上方の金属部(11、12)とマスクを保持する金属台(23)との間に高周波の電圧(27)を印加する工程と、マスク上方の電磁レンズ(17)によって磁場を発生させる工程とを含むクリーニング方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/326