特許

J-GLOBAL ID：200903062292921447

平版印刷版製造ラインの防塵構造

発明者： 鈴木 道明
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-352631
公開番号（公開出願番号）：特開2003-145023
出願日： 2001年11月19日
公開日（公表日）： 2003年05月20日
要約：

【要約】【課題】 支持体に対する感光層の塗布及び形成時に、感光層への異物付着を防止する。【解決手段】 平版印刷版の製造時には、静圧調整装置44〜50により塗布室部32、乾燥室部34、塗布ケーシング20及び乾燥炉22の内部静圧PA、PD、PC、PFが、PF>PC>PA≧PD>P0の関係を満たし、かつPCとPAとの差圧が1.0mmAq以上とされる。これにより、塗布室部32内に外部から清浄化処理されていない空気が流入することが抑制されると同時に、塗布室部32内の空気が入口部40等の開口部を通して塗布ケーシング20内へ流入することも抑制され、また乾燥室部34内に装置外部から清浄化処理されていない空気が流入することが抑制されると同時に、乾燥室部34内の空気及び装置外部の空気が乾燥炉22内へ流入することも抑制される。

請求項（抜粋）：

所定の搬送経路に沿って搬送される長尺帯状の支持体に有機溶剤を含む塗液を塗布して塗膜層を形成する塗布装置と、前記塗布装置の下流側に設置され、該塗布装置により支持体に形成された塗膜層を乾燥する乾燥装置とを備えた平版印刷版の製造ラインに設けられ、前記塗布装置及び前記乾燥装置内への塵埃等の異物の侵入を防止するための防塵構造であって、前記塗布装置の外殻部を構成し、内部に支持体に塗液を塗布する塗布部が配置された塗布ケーシングと、前記塗布装置を収納し、隔壁により外部から区画された塗布室と、前記乾燥装置に設けられ、前記塗布ケーシングに上流側の端部が接続されると共に、塗膜層が形成された支持体が内部を通過する際に塗膜層が加熱乾燥される筐体状の乾燥炉と、前記塗布ケーシング、前記塗布室及び前記乾燥炉の内部静圧をそれぞれ調整する静圧調整手段とを有し、大気圧をP0、前記塗布ケーシングの内部静圧をPC、前記塗布室の内部静圧をPA、前記乾燥炉の内部静圧をPFとしたとき、前記静圧調整手段は、PF>PC>PA>P0となり、かつPCとPAとの差圧が1.0mmAq以上となるように、前記塗布ケーシング、前記塗布室及び前記乾燥炉の内部静圧をそれぞれ調整することを特徴とする平版印刷版製造ラインの防塵構造。

IPC (6件)：

B05C 15/00 ,  B05C 9/14 ,  B05D 7/14 101 ,  B41N 3/00 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/16 501

FI (6件)：

B05C 15/00 ,  B05C 9/14 ,  B05D 7/14 101 A ,  B41N 3/00 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/16 501

Fターム (23件)：

2H025AB03 ,  2H025EA04 ,  2H096AA06 ,  2H096CA12 ,  2H096CA20 ,  2H096LA30 ,  2H114GA02 ,  4D075BB24Z ,  4D075BB56Z ,  4D075DA04 ,  4D075DB07 ,  4D075DC27 ,  4D075EA07 ,  4D075EA45 ,  4F042AA22 ,  4F042DB03 ,  4F042DB17 ,  4F042DB32 ,  4F042DB37 ,  4F042DB40 ,  4F042DE01 ,  4F042DE06 ,  4F042DE10