特許

J-GLOBAL ID：200903062299743064

低温フローのBPSGを形成するプラズマCVDプロセス

発明者： マーク・ダグラス・ボウファード ,  ウィリアム・ジェームス・キング ,  チェリル・マーフィ・マーチン
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 合田 潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-050073
公開番号（公開出願番号）：特開平6-333858
出願日： 1994年03月22日
公開日（公表日）： 1994年12月02日
要約：

【要約】【目的】 BPSG膜を形成する方法を提供する。【構成】 BPSG膜は、PECVD反応室において、非酸化雰囲気中、低温でフローし、粒子数が減少するようなP2O3/P2O5比率で形成される。この方法では、P2O3/P2O5比を制御することによってBPSG膜の壁面角度を調整することができる。

請求項（抜粋）：

ホウ素リンケイ酸ガラス膜を形成する方法であって、気体のボロン、リン、シリコン及び酸素を含有する反応物を反応室に供給するステップと、上記反応物の少なくとも1つを含むプラズマを形成するステップと、P2O3/P2O5比率が約0%乃至25%の範囲のホウ素リンケイ酸ガラス膜が得られるように上記反応物の圧力、温度及びフロー率を制御するステップと、を含む、方法。

IPC (2件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平1-318235
  
• 特開平3-120825