特許

J-GLOBAL ID：200903062301900091

磁気記録媒体基板およびその粗面化方法

発明者： 金子 英雄 ,  玉井 昇 ,  中里 泰章
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-057076
公開番号（公開出願番号）：特開平7-272267
出願日： 1994年03月28日
公開日（公表日）： 1995年10月20日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】情報記録媒体として有用な磁気記録媒体の高記録密度化方法に関するもので、シリコン基板の表面に異方性エッチングを施して基板表面を粗面化し、磁気記録媒体と磁気ヘッドの吸着を防止して真実接触面積を低減してCSS特性を改善する。【構成】シリコンを用いた磁気記録媒体基板を異方性エッチング液を用いてエッチングすることにより該基板表面を粗面化することを特徴とする磁気記録媒体基板の粗面化方法にあり、更に詳しくは、異方性エッチング液がアルカリ性水溶液で、水酸化ナトリウムおよび/または水酸化カリウムを含む溶液であり、その濃度を 0.5重量%以上3重量%以下とすること、および粗面化した部位のRmaxが0.1 μm以下0.005 μm以上であり、かつシリコン基板が単結晶である磁気記録媒体基板にある。

請求項（抜粋）：

シリコンを用いた磁気記録媒体基板を異方性エッチング液を用いてエッチングすることにより該基板表面を粗面化することを特徴とする磁気記録媒体基板の粗面化方法。

IPC (2件)：

G11B 5/84 ,  G11B 5/82

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 磁気記録媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-073707   出願人：信越化学工業株式会社
• 特開平4-259908
  
• 特開昭53-057144