特許
J-GLOBAL ID:200903062310730158

被処理体移送用真空容器及びそれを用いた処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉村 次郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-323942
公開番号(公開出願番号):特開平8-162520
出願日: 1994年12月02日
公開日(公表日): 1996年06月21日
要約:
【要約】【目的】 シリコンウェハ等の被処理体の大気中での移送を真空状態で簡易に行う。【構成】 被処理体移送用真空容器(以下、単に真空容器という)1の容器本体2内にはシリコンウェハ3が板バネ6によって押え付けられて保持されている。そして、容器本体2内を真空とした状態で蓋体10を閉じると、蓋体10の内面がシールリング8に当接された状態となる。この状態で大気中にさらすと、内外の圧力差により、蓋体10の内面がシールリング8に押し付けられ、これにより真空容器1内の真空状態がそのまま保持されることになる。したがって、簡単な構造の真空容器1を用いて、シリコンウェハ3の大気中での移送を真空状態で簡易に行うことができる。
請求項(抜粋):
容器本体と、該容器本体内に設けられた被処理体保持手段と、前記容器本体に対して開閉自在とされた蓋体と、該蓋体が閉じられたとき該蓋体と前記容器本体との間を密閉する密閉手段とを具備し、前記被処理体保持手段に被処理体を保持させ、前記容器本体内を真空とした状態で前記蓋体を閉じ、この状態で大気中を移送することを特徴とする被処理体移送用真空容器。
IPC (4件):
H01L 21/68 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/02 ,  B65D 81/20
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭57-113245
  • 特開平4-184958
  • 特開昭57-113245
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