特許
J-GLOBAL ID：200903062310869385
多管式気液接触装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-354250
公開番号（公開出願番号）：特開平7-194931
出願日： 1993年12月31日
公開日（公表日）： 1995年08月01日
要約：
【要約】【目的】 下部周壁面にガス噴出孔を有するガス導入管を多数静止液体中に垂設した構造の多管式気液接触装置において、そのガス噴出孔から液体中へのガス噴出に起因する液槽内フロス層の大きな動揺の発生を未然に防止することのできる装置を提供する。【構成】 大型液槽内に下部周壁面にガス噴出孔を有するガス導入管の多数をそのガス噴出孔が液槽内静止液面より下方に位置する気液接触装置において、液槽内を縦横に仕切って液槽内に複数の区画Aを形成させる第1仕切部材と、その区画A内に存在するガス導入管を1本毎又は複数本毎に包囲し、1本又は複数本のガス導入管周囲に区画Bを形成させることを特徴とする多管式気液接触装置。
請求項（抜粋）：
大型液槽内に下部周壁面にガス噴出孔を有するガス導入管の多数をそのガス噴出孔が液槽内静止液面より下方に位置する気液接触装置において、液槽内を縦横に仕切って液槽内に複数の区画Aを形成させる第1仕切部材と、その区画A内に存在するガス導入管を1本毎又は複数本毎に包囲し、1本又は複数本のガス導入管の周囲に区画Bを形成させる第2仕切部材を備えることを特徴とする多管式気液接触装置。
IPC (5件)：
B01D 53/18 ZAB
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/50
, B01D 53/77
, B01J 10/00 104
B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/34 125 E
, B01D 53/34 125 Q
