特許
J-GLOBAL ID：200903062315020434
半導体製造に用いる複数視野較正プレート
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷 義一 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-522959
公開番号（公開出願番号）：特表2000-502447
出願日： 1996年12月18日
公開日（公表日）： 2000年02月29日
要約：
【要約】半導体ウェーハ上の、異なった視野内に配置された各特徴間の距離の測定を容易にするため複数のカメラ(18、20、22)の複数の視野を統合し、かつ各視野のイメージ歪みを補正する製造物品が提供される。本発明の物品は、複数のイメージ歪み較正ターゲット(12、14、16)を有する、プレートなどの実質的に寸法的に安定な基板(10)を含み、各較正ターゲットは既知の相対位置に配置されている。好適な実施例において、較正ターゲットの第1主軸が半導体ウェーハの周辺の接線に対して垂直であるように各較正ターゲットが一定の配位角度で配置されている。実施例において、基板には本発明の製造物品のマルチカメラ座標系と、半導体製造装置の座標系との統合化を容易にするため物理的位置合せ特徴が含まれている。
請求項（抜粋）：
半導体ウェーハ上の、異なった視野内に配置された各特徴間の距離の測定を容易にするため複数のカメラの複数の視野を統合し、かつ各視野のイメージ歪みを補正する製造物品であって、 複数のイメージ歪み較正ターゲットを有する実質的に剛直で寸法的に安定な基板を有し、 視野内のイメージ歪みを補正する前記イメージ歪み較正ターゲットの各々は既知の相対的位置に配置され、異なった視野に配置された半導体ウェーハの特徴間の距離の測定を容易にすることを特徴とする製造物品。
IPC (3件)：
G01B 11/00
, G01B 11/02
, H01L 21/66
G01B 11/00 H
, G01B 11/02 H
, H01L 21/66 J
