特許
J-GLOBAL ID：200903062320046913

質量分析を使用する指紋分析

発明者：
ローウェル,フレデリック・ジョン

ローウェル,フレデリック・ジョン について

, 
シーカー,ブレンダン・ジョン

シーカー,ブレンダン・ジョン について


出願人/特許権者：
ユニヴァーシティ・オヴ・サンダーランド

ユニヴァーシティ・オヴ・サンダーランド について


代理人 (9件)： 奥山 尚一 ,  有原 幸一 ,  松島 鉄男 ,  河村 英文 ,  吉田 尚美 ,  中村 綾子 ,  岡本 正之 ,  深川 英里 ,  森本 聡二
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-525650
公開番号（公開出願番号）：特表2009-505055
出願日： 2006年08月09日
公開日（公表日）： 2009年02月05日
要約：
本出願は、質量分析法を使用して指紋上または内の残留物の存在を判定するための方法に関する。前記質量分析法は、MALDI-TOF-MSおよびSALDI-TOF-MSから選択することができる。マトリックス支援レーザー脱離においてマトリックスとしての役割を果し、指紋の視覚化に役立つ粒子懸濁液を指紋に塗布する。適するマトリックスの例は、疎水性シリカ、チタニア、カーボンブラック、フラーレン、カーボンナノチューブなどである。任意で、指紋は、採取テープを使用して採取することができる。
請求項（抜粋）：
マトリックス支援質量分析法を使用することを特徴とする、指紋内の残留物の存在の判定方法。
IPC (3件)：
G01N 27/62 ,  G01N 27/64 ,  G01N 1/04
FI (5件)：
G01N27/62 V ,  G01N27/64 B ,  G01N27/62 Y ,  G01N27/62 F ,  G01N1/04 V
Fターム (22件)：
2G041AA10 ,  2G041CA01 ,  2G041DA03 ,  2G041DA04 ,  2G041DA19 ,  2G041EA01 ,  2G041FA07 ,  2G041FA10 ,  2G041FA30 ,  2G041GA09 ,  2G041JA07 ,  2G041JA08 ,  2G041KA01 ,  2G041LA20 ,  2G041MA04 ,  2G041MA10 ,  2G052AA28 ,  2G052AB23 ,  2G052AD09 ,  2G052AD49 ,  2G052BA23 ,  2G052GA24
引用特許：
審査官引用 (3件)
引用文献：
審査官引用 (1件)

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