特許
J-GLOBAL ID：200903062320965994
走査露光装置及びその製造方法並びにデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 康徳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-001603
公開番号（公開出願番号）：特開2003-203848
出願日： 2002年01月08日
公開日（公表日）： 2003年07月18日
要約：
【要約】【課題】レチクルステージに保持されたレチクルの面形状等に起因して生じるウエハ上に投影されるパターンのディストーションを高精度に補正する。【解決手段】走査露光装置において、レチクルステージRSTによって光学素子G1を保持し、これをレチクルRと共に移動させる。光学素子G1は、レチクルステージRSTに保持されるレチクルRの面形状に起因するディストーションを補正するように加工されている。
請求項（抜粋）：
走査露光装置であって、原版を保持して所定の走査方向に移動する原版ステージと、前記原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、前記原版ステージによって保持されて前記原版と共に移動される光学素子と、を備えることを特徴とする走査露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
G03F 7/20 521
, H01L 21/30 515 F
, H01L 21/30 516 A
, H01L 21/30 518
5F046BA05
, 5F046CA04
, 5F046CB19
, 5F046CB24
, 5F046CC02
, 5F046DA13
, 5F046DB05
