特許
J-GLOBAL ID：200903062321723153
アクテイブマトリツクス基板とその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-210987
公開番号（公開出願番号）：特開平5-053137
出願日： 1991年08月22日
公開日（公表日）： 1993年03月05日
要約：
【要約】【目的】データ線が断線しにくいアクティブマトリックス基板を製造する。【構成】データ線を多結晶シリコンとAlの2層構造とし、1画素毎にその2層間で電気的接続が取れる構造とする。
請求項（抜粋）：
絶縁基板上に第1のデータ線と画素用トランジスタのソース、ドレイン及びチャネル部となるべき領域が多結晶シリコンなどによる同一材料で同時に形成され、前記第1のデータ線を構成する領域と前記ソース、ドレイン領域に同型不純物が導入され、データ線は前記第1のデータ線を構成する材料と異なる材料により第2のデータ線と2層構造で形成され、前記第1のデータ線と前記第2のデータ線は1画素毎に少なくとも1つのコンタクトホールを介して電気的導通が取れていることを特徴とするアクティブマトリックス基板。
IPC (5件)：
G02F 1/136 500
, G02F 1/1343
, H01L 27/12
, H01L 21/336
, H01L 29/784
H01L 29/78 311 P
, H01L 29/78 311 A
