特許

J-GLOBAL ID：200903062325694972

溶射皮膜の形成方法

発明者： 五日市 剛 ,  大澤 悟
出願人/特許権者： 株式会社フジミインコーポレーテッド
代理人 (2件)： 恩田 博宣 ,  恩田 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-155804
公開番号（公開出願番号）：特開2004-353073
出願日： 2003年05月30日
公開日（公表日）： 2004年12月16日
要約：

【課題】耐衝撃剥離性に優れた溶射皮膜を良好に形成可能な溶射皮膜の形成方法を提供する。【解決手段】本発明の第1の溶射皮膜の形成方法では、基材の表面に溶射皮膜を形成するのに先立って、その基材の表面に投射材が投射される。投射材が投射された後の基材の表面の硬度は、投射材が投射される前の基材の表面の硬度よりも高く、投射材が投射された後の基材の表面の平均粗度Raは6.0μm以下である。本発明の第2の溶射皮膜の形成方法では、基材の表面に溶射皮膜を形成するのに先立って、その基材の表面に投射材が投射されるとともにその投射材が投射された後の基材の表面が研磨される。研磨された後の基材の表面の硬度は、投射材が投射される前の基材の表面の硬度よりも高く、研磨された後の基材の表面の平均粗度Raは6.0μm以下である。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

基材の表面に投射材を投射し、それによって該基材の表面の硬度を増大させる工程であって、投射材が投射された後の前記基材の表面の平均粗度Raは6.0μm以下であることと、 投射材が投射された後の前記基材の表面に溶射皮膜を形成する工程と を備える溶射皮膜の形成方法。

IPC (1件)：

C23C4/02

FI (1件)：

C23C4/02

Fターム (7件)：

4K031AA02 ,  4K031AA05 ,  4K031AB08 ,  4K031BA01 ,  4K031CB21 ,  4K031CB43 ,  4K031DA01