特許

J-GLOBAL ID：200903062328755344

基板の薬液処理装置

発明者： 大谷 正美 ,  森田 彰彦 ,  上野 賢治
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-289732
公開番号（公開出願番号）：特開平10-128094
出願日： 1996年10月31日
公開日（公表日）： 1998年05月19日
要約：

【要約】【課題】 薬液処理用の混合薬液における混合比率を簡便に知ることができる基板の薬液処理装置を提供する。【解決手段】 所定量の薬液Aと薬液Bを計量部1,2から混合部3へ送る。また、所定量の純水Cを定量ポンプPMで混合部3へ送る。これらを混合して混合薬液Dを生成し、この混合液DをパイプP9から最端のノズル6へ送る。ノズル6から基板Wへ混合液Dを噴出して薬液処理を行なう。混合部3の下流のパイプP9にpHセンサ21を設け、混合薬液のpH値を測定し、測定したpH値に基づき、混合薬液Dの混合比率を適当な比率に設定する。

請求項（抜粋）：

複数種類の薬液をそれぞれ所定量づつ供給する薬液供給手段と、前記薬液供給手段から供給された各薬液を混合し、その混合比率の変化に従って水素指数が変化する混合薬液を作成する薬液混合手段とを備え、前記薬液混合手段から送出される混合薬液を用いて基板に対する薬液処理を行なうように構成された基板の薬液処理装置において、前記混合薬液のpH値を検出するpHセンサを前記薬液混合手段または前記薬液混合手段の下流側に配備したことを特徴とする基板の薬液処理装置。

IPC (3件)：

B01F 15/04 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/306

FI (3件)：

B01F 15/04 D ,  H01L 21/304 341 S ,  H01L 21/306 J