磁気記録媒体の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小池晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-332981
公開番号（公開出願番号）：特開平7-192259
出願日： 1993年12月27日
公開日（公表日）： 1995年07月28日
要約：

【要約】【目的】安定な膜質を有する保護膜を得ることが可能な磁気記録媒体の製造方法を提供する。【構成】非磁性支持体上に強磁性金属薄膜よりなる磁性層を形成した後、平均粒子径1〜10μmなる粒子より構成されるターゲット材を用いてマグネトロンスパッタ法により保護膜を成膜する。【効果】ターゲット材の平均粒子径が小さいと、局所的な分子配向が防止され、プラズマの不均一化や異常放電を抑制することができる。これにより、スチル特性およびシャトル特性に優れた安定した膜質の保護膜を成膜でき、業務用として対応できる品質の磁気記録媒体を提供することが可能となる。

請求項（抜粋）：

非磁性支持体上に強磁性金属薄膜と保護膜とを形成する磁気記録媒体の製造方法において、前記保護膜を、平均粒子径1〜10μmなる粒子より構成されるターゲット材を用いてマグネトロンスパッタ法により成膜することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

IPC (3件)：

G11B 5/84 , C23C 14/34 , G11B 5/85

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭62-231424
特開平4-128369
特開昭62-231424

全件表示

前のページに戻る