特許

J-GLOBAL ID：200903062338526084

半導体製造装置

発明者： 富田 弘明 ,  植村 聡 ,  城間 直
出願人/特許権者： 三機工業株式会社
代理人 (1件)： 古谷 史旺
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-216801
公開番号（公開出願番号）：特開2003-031451
出願日： 2001年07月17日
公開日（公表日）： 2003年01月31日
要約：

【要約】【課題】 局所クリーンルーム内の汚染を防止する半導体製造装置を提供することにある。【解決手段】 高性能フィルタを通して清浄化された空気をファンにより圧送して区画内を所定の清浄度に保つ局所クリーンルームと、半導体ウエハの受渡口を介して前記局所クリーンルーム外に設置される製造装置と、前記製造装置と対向するとともに半導体ウエハの受渡口を介して前記局所クリーンルーム外に配設される半導体ウエハ収納容器と、前記局所クリーンルーム内に設置されて前記半導体ウエハ収納容器内の半導体ウエハを該半導体ウエハ収納容器と前記製造装置との間で受け渡しを行う搬送装置と、前記半導体ウエハ収納容器に近接して配置され、該半導体ウエハ収納容器周囲の清浄度を高めるファンフィルタユニットとを備えたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

高性能フィルタを通して清浄化された空気をファンにより圧送して区画内を所定の清浄度に保つ局所クリーンルームと、半導体ウエハの受渡口を介して前記局所クリーンルーム外に設置される製造装置と、前記製造装置と対向するとともに半導体ウエハの受渡口を介して前記局所クリーンルーム外に配設される半導体ウエハ収納容器と、前記局所クリーンルーム内に設置されて前記半導体ウエハ収納容器内の半導体ウエハを該半導体ウエハ収納容器と前記製造装置との間で受け渡しを行う搬送装置と、前記半導体ウエハ収納容器に近接して配置され、該半導体ウエハ収納容器周囲の清浄度を高めるファンフィルタユニットとを備えたことを特徴とする半導体製造装置。

IPC (3件)：

H01L 21/02 ,  F24F 7/00 ,  F24F 7/06

FI (3件)：

H01L 21/02 D ,  F24F 7/00 B ,  F24F 7/06 C

Fターム (4件)：

3L058BE02 ,  3L058BF03 ,  3L058BF08 ,  3L058BG05