特許

J-GLOBAL ID：200903062352212149

走査露光方法及び走査露光装置

発明者： 鈴木 徹
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-303017
公開番号（公開出願番号）：特開2002-110526
出願日： 2000年10月03日
公開日（公表日）： 2002年04月12日
要約：

【要約】【課題】 同期精度を悪化させることなく走査露光時に必要となる整定距離を短縮し、全体としてスループットを向上させる。【解決手段】 基板としてのウエハWを載せたウエハステージ1の加速終了時から走査露光開始までに必要となる該ウエハステージ1の同期整定距離を、該ウエハステージ1の実際の位置に応じた目標位置に対するレチクルステージの位置ずれ量である同期誤差が許容値以内に収まるまでの時間(同期整定時間という)に基づいて設定し、原版であるレチクルRに形成された転写用のパターンの一部をウエハW上に投射した状態で、レチクルR、及びウエハWを同期して移動することによって、ウエハW上の各ショット領域にそれぞれレチクルRのパターンを逐次転写露光する。

請求項（抜粋）：

原版に形成された転写用のパターンの一部を基板上に投射した状態で、前記原版、及び前記基板を同期して移動することによって、前記基板上の各ショット領域にそれぞれ前記原版のパターンを逐次転写露光する露光方法において、前記基板を載せた基板ステージの加速終了時から走査露光開始までに必要となる該基板ステージの同期整定距離を、該基板ステージの実際の位置に応じた目標位置に対する原版ステージの位置ずれ量である同期誤差が許容値以内に収まるまでの時間(同期整定時間という)に基づいて設定することを特徴とする走査露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/22

FI (5件)：

G03F 7/20 521 ,  G03F 7/22 H ,  G03F 7/22 Z ,  H01L 21/30 516 B ,  H01L 21/30 518

Fターム (11件)：

2H097AA05 ,  2H097AB09 ,  2H097BB01 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  2H097LA15 ,  2H097LA20 ,  5F046BA05 ,  5F046CC13 ,  5F046CC15