特許

J-GLOBAL ID：200903062352658244

シス-4-t-ブチルシクロヘキサノールの製造法

発明者： 江村 誠 ,  豊田 高明 ,  清藤 信夫 ,  野依 良治 ,  碇屋 隆雄 ,  大熊 毅
出願人/特許権者： 高砂香料工業株式会社
代理人 (1件)： 有賀 三幸 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-050310
公開番号（公開出願番号）：特開平9-241194
出願日： 1996年03月07日
公開日（公表日）： 1997年09月16日
要約：

【要約】【課題】 香料原料として価値の高いシス体含量の多い4-t-ブチルシクロヘキサノールを、工業的に実施可能な程度に、経済的に安価に製造する方法を提供する。【解決手段】 4-t-ブチルシクロヘキサノンを、ルテニウム-ホスフィン錯体を触媒としてアルカリ金属またはアルカリ土類金属を有する塩基およびアミンの存在下で水素化する。

請求項（抜粋）：

次の式(1)【化1】で表される4-t-ブチルシクロヘキサノンを、ルテニウム-ホスフィン錯体を触媒としてアルカリ金属またはアルカリ土類金属を有する塩基およびアミンの存在下で水素化することを特徴とする次の式(2)【化2】で表されるシス-4-t-ブチルシクロヘキサノールの製造法。

IPC (5件)：

C07C 35/08 ,  B01J 31/24 ,  C07C 29/145 ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 9:00

FI (4件)：

C07C 35/08 ,  B01J 31/24 ,  C07C 29/145 ,  C07B 61/00 300