特許

J-GLOBAL ID：200903062352924700

脱気システムおよび処理液供給装置

発明者： 佐藤 誠也 ,  川本 隆範
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-106570
公開番号（公開出願番号）：特開平9-290201
出願日： 1996年04月26日
公開日（公表日）： 1997年11月11日
要約：

【要約】【課題】 送液経路を通して吐出部に送られる液体の脱気を外気温度の影響を受けずに安定に行うことができる脱気システムおよびそれを備えた処理液供給装置を提供することである。【解決手段】 処理液タンク1から処理液供給配管3を通して温度T1 の処理液がバッファタンク4に供給される。バッファタンク4内の処理液は、温調水配管5に温調水を循環させることにより温度T1 よりも高い温度T2 に保たれる。バッファタンク4内の処理液は、処理液供給配管9を介して熱交換タンク13に供給される。その処理液は熱交換タンク13により温度T2 よりも低い温度T0 に調整され、断熱材15で被覆された処理液供給配管14を介して吐出ノズル16に供給され、吐出ノズル16の吐出口から基板100の表面に吐出される。

請求項（抜粋）：

送液経路を通して吐出部に送られる液体の脱気を行う脱気システムであって、前記送液経路の所定箇所での液体の温度を前記吐出部での液体の温度よりも高く保つ温度調整手段を備えたことを特徴とする脱気システム。

IPC (3件)：

B05C 11/10 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

B05C 11/10 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 C