特許
J-GLOBAL ID:200903062356661720
X線発生方法及び装置
発明者:
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岡崎 謙秀
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-192182
公開番号(公開出願番号):特開2000-030892
出願日: 1998年07月07日
公開日(公表日): 2000年01月28日
要約:
【要約】【課題】 加速器を用いることなく、通常の実験室で得られる程度の低い電圧で加速した非相対論的低エネルギーの電子によりパラメトリックX線放射を起こさせて単色X線を発生させることのできる、新しいX線発生方法及び装置を提供する。【解決手段】 真空空間(1)において、電子銃(3)から低い電圧で加速された低エネルギー電子(2)を方位のそろった結晶体(5)に入射させて、結晶体(5)からのパラメトリックX線放射を発生させてX線(6)を取り出す。
請求項(抜粋):
真空空間において、電子銃から低い電圧で加速された低エネルギー電子を方位のそろった結晶体に入射させて、結晶体からのパラメトリックX線放射を発生させてX線を取り出すことを特徴とするX線発生方法。
IPC (2件):
FI (3件):
H05G 1/00 L
, H01J 35/08 B
, H01J 35/08 C
Fターム (9件):
4C092AA02
, 4C092AA16
, 4C092AA20
, 4C092AB11
, 4C092AB12
, 4C092AB15
, 4C092BD01
, 4C092BD09
, 4C092BD17
前のページに戻る