特許
J-GLOBAL ID：200903062367847230
加熱装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
小谷 悦司
, 植木 久一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-212564
公開番号（公開出願番号）：特開2004-055896
出願日： 2002年07月22日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：
【課題】ウエハ全面を均一に加熱することのできる均熱性に優れた加熱装置を提供する。【解決手段】反応容器と、この反応容器内に平面状に設置された配設された発熱体とを備え、この発熱体を巻回する高周波誘導コイルへの通電により発熱体を発熱させると共に被加熱物を加熱する加熱装置であって、反応容器の外側にコイル素線が巻回されることによって上記高周波誘導コイルが形成されており、この高周波誘導コイルには、上記発熱体の設置部と平行な一対の面内において上記コイル素線が並列に配設された一対の平面部が設けられている。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
反応容器と、この反応容器内に平面状に設置された発熱体とを備え、この発熱体を巻回する高周波誘導コイルへの通電により発熱体を発熱させると共に被加熱物を加熱する加熱装置であって、
反応容器の外側にコイル素線が巻回されることによって上記高周波誘導コイルが形成されており、
この高周波誘導コイルには、上記発熱体の設置部と平行な一対の面内において上記コイル素線が並列に配設された一対の平面部が設けられていることを特徴とする加熱装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (11件)：
4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030FA10
, 4K030KA23
, 4K030KA46
, 5F045AA06
, 5F045BB02
, 5F045DP04
, 5F045EK03
, 5F045EK21
, 5F045EM09
