特許
J-GLOBAL ID：200903062373702502
過酢酸および他の酸化剤の電気化学的合成
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀策
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-530250
公開番号（公開出願番号）：特表2002-502636
出願日： 1999年01月28日
公開日（公表日）： 2002年01月29日
要約：
【要約】電解ユニット(10)は、カソードチャンバ(14)からアノードチャンバ(12)を分離する工程ののためのイオン選択性隔壁(20)を有する。ユニット内の電解質は、前駆体(例えば、酢酸カリウム)または酢酸を含む。正電位がアノードチャンバ内のアノード(16)に印加され、結果として、種々の短くおよび長く活性した酸化種(例えば、過酢酸、過酸化水素およびオゾン)が生成する。1実施態様において、酸化種を含有する溶液は、アーティクル(例えば、医療機器)が浄化されるべき部位まで輸送される。酸化種は必要に応じて生成され、危険浄化剤の貯蔵の必要性を避ける。
請求項（抜粋）：
酸化種を用いてアイテムを抗菌浄化するための方法であって、該方法が、該酸化種を含む抗菌溶液を電気化学的に生成する工程を包含し、該生成する工程が、電気化学セル(10)のアノードチャンバ(12)およびカソードチャンバ(14)を、該酸化種に対して実質的に非透過性である隔壁(20)を用いて分離する工程、および該アノードチャンバ内のアノード(16)に正電位を印加して、該アノードおよびカソード(18)の少なくとも1つに隣接する電解質内の前駆体を該酸化種に転化する工程を含み、該方法が、以下: 該酸化種の少なくとも1つの重要な成分として過酢酸を電気化学的に生成する工程であって、該抗菌溶液中の該過酢酸の濃度が約10ppmまたはそれ以上である、工程; 該抗菌溶液を含む該過酢酸を流体フローパスに沿って、該アイテムが抗菌浄化されるべき部位(44)まで輸送する工程;および 該アイテムを、該抗菌溶液を含む該過酢酸と接触させ、該アイテムを抗菌浄化する工程; によって特徴付けられる、方法。
IPC (4件)：
A61L 2/20
, A61L 2/02
, A61L 2/18
, C02F 1/46
A61L 2/20 J
, A61L 2/02
, A61L 2/18
, C02F 1/46 Z
4C058AA12
, 4C058BB07
, 4C058CC02
, 4C058CC04
, 4C058JJ06
, 4C058JJ14
, 4D061DA08
, 4D061DB01
, 4D061DB09
, 4D061EA02
, 4D061EB04
, 4D061EB13
, 4D061EB30
, 4D061EB37
, 4D061GA08
, 4D061GC06
