特許

J-GLOBAL ID：200903062377218117

ドライアイスエーロゾルの製法

発明者： 木山 洋実 ,  横山 敬志 ,  奥 秀彦 ,  三条 大輔
出願人/特許権者： エア・ウォーター株式会社
代理人 (1件)： 西藤 征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-253166
公開番号（公開出願番号）：特開2003-054929
出願日： 2001年08月23日
公開日（公表日）： 2003年02月26日
要約：

【要約】【課題】硬度が高く、ミクロンオーダー以下のドライアイス粒子を製造することができ、しかも、不純物の混入のおそれがなく、半導体ウエハ等の表面洗浄用等に適したドライアイスエーロゾルの製法を提供する。【解決手段】 液化炭酸ガスを減圧して気液混合状態にしたのちノズル3内部に噴射するとともに、このノズル3内部に窒素ガスを高速で噴射し、この窒素ガスの冷熱で上記気液混合状態の液化炭酸ガス,炭酸ガスを冷却し、窒素ガスを分散媒としドライアイス粒子を分散相とするエーロゾルを製造するとともに、このエーロゾルを窒素ガスの噴射流によりノズル3から噴出するようにしている。

請求項（抜粋）：

液化炭酸ガスを減圧して気液混合状態にしたのちノズル内部に噴射するとともに、このノズル内部に窒素ガスを高速で噴射し、この窒素ガスの冷熱で上記気液混合状態の液化炭酸ガスおよび炭酸ガスを冷却し、窒素ガスを分散媒としドライアイス粒子を分散相とするエーロゾルを製造するとともに、このエーロゾルを窒素ガスの噴射流によりノズルから噴出するようにしたドライアイスエーロゾルの製法。

IPC (6件)：

C01B 31/22 ,  B01J 13/00 ,  B05B 7/04 ,  C09K 3/30 ,  B08B 7/00 ,  H01L 21/304 643

FI (6件)：

C01B 31/22 ,  B01J 13/00 C ,  B05B 7/04 ,  C09K 3/30 D ,  B08B 7/00 ,  H01L 21/304 643 Z

Fターム (16件)：

3B116AA01 ,  3B116BA06 ,  3B116BB38 ,  3B116BB82 ,  3B116BB90 ,  4F033QA04 ,  4F033QB02Y ,  4F033QB08X ,  4F033QD02 ,  4G046JB22 ,  4G065AA10 ,  4G065BB01 ,  4G065BB02 ,  4G065BB05 ,  4G065CA17 ,  4G065DA08